什么是硅烷化處理?
在金屬,玻璃及陶瓷等耐高溫基質表面,采用化學氣相沉積(CVD)工藝在基質表面鍵合一層納米級非晶硅或者氧化硅,
從而改善基底材料表面性能,如減少金屬吸附影響、增加惰性、更加耐受酸腐蝕,增強疏水性及硬度等。
防止活性介質發生吸附,減小目標物損失、響應丟失問題,縮短無效分析檢測時間,提高效率,適用于硫化物、汞和氨氣等微痕量目標的分析。
涂層具有較低的化學比表面能,有效防止目標分析物在流路表面粘附堆積引起的流路堵塞。
鍍層與基體間結合力強,鍵合力強,從而提升了設備的使用壽命,降低成本,減少維護時間。
延長了工件在酸性環境下的使用壽命,例如在鹽酸、氯氣等環境(局限性:不耐HF和強堿)。
厚度可控,彩色鍍膜的厚度在300-500nm左右。
增加表面疏水性,不銹鋼表面鍍膜后的接觸角約106度。
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